Neutron Transmutation Doping of Semiconductor Materials / Najlacnejšie knihy
Neutron Transmutation Doping of Semiconductor Materials

Kod: 05257660

Neutron Transmutation Doping of Semiconductor Materials

Autor Robert D. Larrabee

viii The growing use of NTD silicon outside the U. S. A. motivated an interest in having the next NTD conference in Europe. Therefore, the Third International Conference on Neutron Transmutation-Doped Silicon was organized by Jens ... więcej

58.56


Dostępna u dostawcy w małych ilościach
Wysyłamy za 10 - 14 dni

Potrzebujesz więcej egzemplarzy?Jeżeli jesteś zainteresowany zakupem większej ilości egzemplarzy, skontaktuj się z nami, aby sprawdzić ich dostępność.


Dodaj do schowka

Zobacz książki o podobnej tematyce

Podaruj tę książkę jeszcze dziś
  1. Zamów książkę i wybierz "Wyślij jako prezent".
  2. Natychmiast wyślemy Ci bon podarunkowy, który możesz przekazać adresatowi prezentu.
  3. Książka zostanie wysłana do adresata, a Ty o nic nie musisz się martwić.

Dowiedz się więcej

Więcej informacji o Neutron Transmutation Doping of Semiconductor Materials

Za ten zakup dostaniesz 147 punkty

Opis

viii The growing use of NTD silicon outside the U. S. A. motivated an interest in having the next NTD conference in Europe. Therefore, the Third International Conference on Neutron Transmutation-Doped Silicon was organized by Jens Guldberg and held in Copenhagen, Denmark on August 27-29, 1980. The papers presented at this conference reviewed the developments which occurred during the t'A'O years since the previous conference and included papers on irradiation technology, radiation-induced defects, characteriza tion of NTD silicon, and the use of NTD silicon for device appli cations. The proceedings of this conference were edited by Jens Guldberg and published by Plenum Press in 1981. Interest in, and commercial use of, NTD silicon continued to grow after the Third NTD Conference, and research into neutron trans mutation doping of nonsilicon semiconductors had begun to accel erate. The Fourth International Transmutation Doping Conference reported in this volume includes invited papers summarizing the present and anticipated future of NTD silicon, the processing and characterization of NTD silicon, and the use of NTD silicon in semiconductor power devices. In addition, four papers were pre sented on NTD of nonsilicon semiconductors, five papers on irra diation technology, three papers on practical utilization of NTD silicon, four papers on the characterization of NTD silicon, and five papers on neutron damage and annealing. These papers indi cate that irradiation technology for NTD silicon and its use by the power-device industry are approaching maturity.

Szczegóły książki

Kategoria Książki po angielsku Technology, engineering, agriculture Electronics & communications engineering Electronics engineering

58.56

Ulubione w innej kategorii



Osobní odběr Bratislava a 2642 dalších

Copyright ©2008-24 najlacnejsie-knihy.sk Wszelkie prawa zastrzeżonePrywatnieCookies


Konto: Logowanie
Všetky knihy sveta na jednom mieste. Navyše za skvelé ceny.

Nákupní košík ( prázdný )

Nakupte za 59,99 € a
máte doručení zdarma.

Twoja lokalizacja: