Magnetron-aktivierte plasmachemische Dampfphasenabscheidung von amorphen und mikrokristallinen wasserstoffhaltigen Siliziumschichten / Najlacnejšie knihy
Magnetron-aktivierte plasmachemische Dampfphasenabscheidung von amorphen und mikrokristallinen wasserstoffhaltigen Siliziumschichten

Code: 02838087

Magnetron-aktivierte plasmachemische Dampfphasenabscheidung von amorphen und mikrokristallinen wasserstoffhaltigen Siliziumschichten

by Pierre Pötschick

Amorphe und mikrokristalline Dünnschichten zur großflächigen Anwendung in der Photovoltaik oder für Dünnschichttransistoren in der Sensorik werden in der industriellen Praxis durch HF- bzw. VHF- und Mikrowellen-PECVD hergestellt. ... more

28.51

RRP: 31.59 €

You save 3.09 €


In stock at our supplier
Shipping in 5 - 7 days
Add to wishlist

You might also like

Give this book as a present today
  1. Order book and choose Gift Order.
  2. We will send you book gift voucher at once. You can give it out to anyone.
  3. Book will be send to donee, nothing more to care about.

Book gift voucher sampleRead more

More about Magnetron-aktivierte plasmachemische Dampfphasenabscheidung von amorphen und mikrokristallinen wasserstoffhaltigen Siliziumschichten

You get 72 loyalty points

Book synopsis

Amorphe und mikrokristalline Dünnschichten zur großflächigen Anwendung in der Photovoltaik oder für Dünnschichttransistoren in der Sensorik werden in der industriellen Praxis durch HF- bzw. VHF- und Mikrowellen-PECVD hergestellt. Der vorliegende Band der "Dresdner Beiträge zur Sensorik" untersucht für die Herstellung dieser Schichten den Magnetron-PECVD-Prozess, bei dem zur Plasmaerzeugung und -steuerung eine Magnetron-Sputterquelle, die für das reaktive Puls-Magnetron-Sputtern entwickelt wurde, eingesetzt wird.§Durch die hohe Plasmadichte der Magnetron-Sputterquelle und dem daraus resultierenden Ausnutzungsgrad des Prekursors werden höhere Beschichtungsraten erzielt als in den industriell genutzten Prozessen. Die gepulste Energieeinspeisung bietet viele Prozessparameter um Schichteigenschaften zu beeinflussen und führt zusammen mit einer schnellen Arc-Abschaltung zu einer hohen Prozessstabilität des PECVD-Prozesses. Durch die Charakterisierung der Schichteigenschaften und durch Prozesscharakterisierung mittels Langmuir-Sonde werden Zusammenhänge zwischen von außen einstellbaren Plasmaparametern und den resultierenden Schichteigenschaften hergestellt.

Book details

Book category Books in German Naturwissenschaften, Medizin, Informatik, Technik Technik Elektronik, Elektrotechnik, Nachrichtentechnik

28.51

Trending among others



Collection points Bratislava a 2642 dalších

Copyright ©2008-24 najlacnejsie-knihy.sk All rights reservedPrivacyCookies


Account: Log in
Všetky knihy sveta na jednom mieste. Navyše za skvelé ceny.

Shopping cart ( Empty )

For free shipping
shop for 59,99 € and more

You are here: