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Book synopsis

Os processos de deposiçăo química a partir da fase vapor (CVD) do diamante săo extremamente complexos. Devido a essa complexidade o desenvolvimento de reatores de CVD requer a utilizaçăo de modelagens computacionais adequados. Neste trabalho se encontra uma modelagem sofisticada de um reator CVD para crescimento de filmes de diamante e se desenvolve um protótipo de simulador computacional para ajudar na resoluçăo das equaçőes diferenciais encontradas. Também há dados sobre as espécies químicas envolvidas. Finalmente apresenta-se uma série de resultados de simulaçőes.

Book details

• Full title: Modelagem Computacional de Reatores CVD para Filmes de Diamante
• Subtitle: Uma abordagem interdisciplinar da Engenharia
• Author: Juan Carlos Alvarado Alcocer
• Language: Portuguese
• Binding: Paperback
• Number of pages: 124
• EAN: 9783330729544
• ID: 02987649
• Publisher: Novas Edicioes Academicas
• Weight: 203 g
• Dimensions: 220 × 150 × 7 mm
• Date of publishing: 14. April 2016

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